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正性光刻胶

 正性光刻胶

正性光刻胶

品牌：futurrex

正性光刻胶分为粘性增强正性光刻胶。粘度增强正胶的应用是湿刻、反应离子束刻蚀、离子植入、电镀。

正性光刻胶
光刻胶型号
PR1-1000A
PR1-2000A
PR1-4000A
PR1-12000A		 厚度
0.7μm - 2.1μm
1.4μm - 4.2μm
2.8μm - 15.0μm
11.8μm - 24.5μm
耐温性能< 130°C

 应用

  • 正性光刻胶的粘附性良好，可用于干法刻蚀/湿法刻蚀/电镀/离子注入.

正性光刻胶PR1-4000A的典型侧壁轮廓
厚度 = 10μm

正性光刻胶用显影液（用于正性光刻胶的水性显影液）:
常用光刻胶
厚度范围: 0.7 - 3 微米
性能:
  • 无需使用增粘剂
  • 有效抑制反射凹痕
  • 消除光敏剂升华，防止烘培中堵塞排气管路
  • 良好的分辨率 .
  • 曝光时间短 .
  • 显影时间短.
  • 良好的耐温性 .
  • 易于用RR4去胶液去除 .
  • 常温下可储存1年 .
应用 :
  • 蚀刻，离子注入，金属电镀工艺制造:
  • 集成度路
  • 微系统
  • 平板显示
  • 高密度封装

 

厚膜光刻胶
厚度范围: 3 - 25 微米
性能:
  • 良好的分辨率 .
  • 光刻速度快，有利于提高曝光效率.
  • 显影时间短.
  • 在离子刻蚀制程中有良好的选择性 .
  • 易于用RR4去胶液去除.
  • 常温下可储存1年.
应用:
  • 金属电镀，离子注入工艺制造
  • 集成电路
  • 微系统
  • 平板显示
  • 高密度封装

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